空氣潔凈技術(shù)的昨天今天明天

空氣潔凈技術(shù)的昨天今天明天

    空氣潔凈技術(shù)是二次世界大戰(zhàn)后才開始形成和發(fā)展起來的環(huán)境工程技術(shù)。目前在加工、宇航工業(yè)、微電子工業(yè)等眾多工業(yè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，并以更加迅猛的發(fā)展趨勢(shì)擴(kuò)展到醫(yī)療、制藥、食品、化妝品、無菌培植、遺傳工程等生物潔凈技術(shù)領(lǐng)域。

    二戰(zhàn)前的加工業(yè)其只在微米級(jí)水平上，尚無控制塵埃污染的要求。隨著生產(chǎn)水平的提高，首先是軍事工業(yè)和微加工技術(shù)對(duì)空氣中塵埃粒徑的控制要求提到了亞微米級(jí)別。對(duì)塵埃與產(chǎn)品質(zhì)量間的關(guān)系有了量的概念

    于50年代初結(jié)合曼哈頓研究計(jì)劃，美國(guó)宇航工業(yè)率先研制成功第一臺(tái)高效能塵埃粒子過濾器開始，又建成世界第一個(gè)高級(jí)別平行流空氣潔凈室，保證了60年代微加工業(yè)順利地跨入了亞微米級(jí)外，使膠片的解相力每一毫米寬度能記錄下可分辯的單線條數(shù)發(fā)展到全息干版3000條線。而70年代開始出現(xiàn)的超大規(guī)模集成電路，其掩膜厚度已達(dá)到十分之幾到百分之幾微米，電器元件之間的金屬聯(lián)線之寬度一光刻基本圖形尺寸，小達(dá)到0.01微米。一顆塵埃，即使小到0.01微米也能使大規(guī)模集成電路片形成針孔或電路切斷、短路等事故而報(bào)廢。微電子工業(yè)從一九七五年動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器DRAM 16K到一九九八年的256K，平均每三年容量增加五倍，今后對(duì)小塵埃粒徑從目前的0.1微米控制技術(shù)還要低一至二個(gè)數(shù)量級(jí)。

    與上述空氣潔凈技術(shù)在深度上不斷發(fā)展的同時(shí)，在生物凈化領(lǐng)域得到了更廣泛的應(yīng)用，成為今后主要發(fā)展方向和擴(kuò)展的應(yīng)用領(lǐng)域。

               本文章摘自空氣過濾網(wǎng)生產(chǎn)廠家http://xrwlp.cn 如需轉(zhuǎn)載，請(qǐng)注明出處！